Mikrosystementwurf - Geometrie
Inhalt
Die geometrische Phase des Entwurfs von Mikrosystemen befasst sich mit der Erstellung der Maskengeometrien, die als Vorlage für die lithografische Strukturübertragung während der Ferti-gung verwendet werden. Da es hier häufig um die Erzeugung von Milliarden geometrischer Strukturen geht, ist eine Rechnerunterstützung unverzichtbar. In der Vorlesung werden sowohl die grundlegenden Methoden für die Layouterstellung als auch die dazu heute verfügbaren Algorithmen und Werkzeuge vorgestellt. Dies umfasst Partitionierer, Floorplanner, Entwurfsregelprüfer, Extraktoren, Platzierer und Verdrahter, Kompaktoren und Synthesesysteme. Es werden weiterhin spezielle Techniken der Layouterstellung für analoge integrierte Schaltungen, Layouts von nicht-elektronischen Mikrosystemen (MEMS), FPGAs, sowie IPs und Reuse-Techniken behandelt.
Die Vorlesung umfasst neben dem theoretischen Teil, der mit jeweils 2 Vorlesungsdoppelstunden pro Woche in der ersten Semesterhälfte stattfindet, einen praktischen Teil in der zweiten Semesterhälfte, in dem unter Verwendung industrieüblicher Layoutentwurfssoftware ein konkre-tes Layoutprojekt durchgeführt wird.
In der Mikrosystemtechnik-Geometrie werden folgende Inhalte vermittelt:
- Mikrosysteme und Mikrosystementwurf
- Design Flow
- Layout-Algorithmen
- Spezielle Layouttechniken
- Perspektiven
Materialien und Ablaufdetails
- www.moodle.uni-siegen.de
Zugansdaten erfragen
Dr. Michael Wahl
Literatur
- Rainer Brück, Entwurfswerkzeuge für VLSI-Layout, Hanser Verlag, 1993
- Naveed Sherwani, Algorithms for VLSI Physical Design Automation, Kluwer Academic Publishers, 1999
- Dan Clein, CMOS IC Layout, Newnes Press, 2000
- Alan Hastings, The Art of Analog Layout, Prentice Hall 2001
- Christopher Saint, Judy Saint, IC-Layout Basics, McGraw Hill, 2001
- Christopher Saint, Judy Saint, IC-Mask Design, McGraw Hill, 2002
Dozent
Zielgruppe
- Informatik
- Elektrotechnik
Leistungspunkte
5
Prüfungsart
mündlich
Voraussetzungen (formal)
keine